電鍍處理過程中所用的設備主要（yào）有各類固定槽、滾鍍槽、掛具（jù）、吊籃等。鍍（dù）後處理是對零件進行（háng）拋（pāo）光、出光、鈍化（huà）、著（zhe）色、幹燥、封閉、去氫等工作，龍門式掛鍍生產線（xiàn），根據需（xū）要選用其中一種或數種工序（xù）使零件符合質量要求。鍍後處理常用設備（bèi）主要有磨、拋光機，各類固定槽。全自動環形垂（chuí）直升降電（diàn）鍍流水線
工藝要求
1. 鍍層與基體金屬，鍍層與鍍層之間，應（yīng）有良好的結合力。
2. 鍍層應結（jié）晶細（xì）致，掛鍍生產線研發，平整，厚度均勻。
3. 鍍層應具有規定的厚度（dù）和（hé）盡可能少的孔隙。
4. 鍍層應具有規定的各項指標，如光亮度，硬度，導電性等。
5. 環境溫度為-10℃～60℃;
6. 輸入電壓為（wéi）220V±22V或（huò）380V±38V;
7. 水處理設備最.大工作噪聲應不大於80dB(A)。
8. 相（xiàng）對濕度(RH)應不大於95%;
9. 原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。
10. 電（diàn）鍍（dù）時間及電（diàn）鍍過程的溫度，決定鍍層厚（hòu）度的大小。
電鍍的概念
就（jiù）是利用（yòng）電解（jiě）原理在（zài）某些金屬表麵（miàn）上鍍上一薄層其它（tā）金（jīn）屬或合金的（de）過程。電鍍時，鍍層金屬做陽極，被氧化成陽離子進入電鍍液（yè）；待鍍的（de）金屬（shǔ）製品做陰極，鍍層金屬的陽離子在金屬表（biǎo）麵被（bèi）還原形成鍍層。為排除其它陽（yáng）離子的幹擾，且使鍍層（céng）均勻、牢固，掛鍍生產線公司，需用含鍍層金屬陽離（lí）子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度（dù）不變。電（diàn）鍍（dù）的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改（gǎi）變基材表麵性質或尺寸.電鍍能增強金（jīn）屬的抗腐（fǔ）蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬（shǔ）)、增加硬度、防止磨耗、提高導電（diàn）性、潤滑性、耐熱性、和（hé）表麵（miàn）美觀。
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