電鍍處理過程中所用的設備主要（yào）有各類固（gù）定槽、滾鍍槽、掛具、吊籃等。鍍後處（chù）理是（shì）對零件進行拋光、出光、鈍化、著色、幹燥、封閉、去氫等工作，龍門式掛鍍生產線，根據需要選用其中一種或數種工（gōng）序使零件（jiàn）符合質量要求。鍍後處理常用設備主要（yào）有磨（mó）、拋光機，各類固（gù）定槽。全自動環形垂直升降電鍍流水線
工藝要求
1. 鍍層（céng）與基體金（jīn）屬，鍍層與（yǔ）鍍層之間，應有良好（hǎo）的結合力（lì）。
2. 鍍（dù）層應結晶細致，掛鍍生產線研發，平整，厚度均勻。
3. 鍍層應具（jù）有規定的厚度和盡可能少的孔隙。
4. 鍍（dù）層應具有規定的各項指標，如（rú）光亮度，硬度，導電（diàn）性等。
5. 環境溫（wēn）度（dù）為-10℃～60℃;
6. 輸入電壓為220V±22V或380V±38V;
7. 水處理設備最.大工作噪聲應不大於80dB(A)。
8. 相對濕度(RH)應不大於95%;
9. 原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。
10. 電鍍時間及（jí）電鍍過程的溫度，決定（dìng）鍍層厚度的大（dà）小。
電鍍的概念（niàn）
就是利用（yòng）電解原理在某些金屬（shǔ）表麵上鍍上一薄（báo）層（céng）其它（tā）金屬或合（hé）金的過（guò）程。電鍍時（shí），鍍層金（jīn）屬做陽極，被氧化（huà）成陽離子進入電鍍液；待鍍（dù）的金屬製品做陰極，鍍層金屬的陽離子在金屬表麵（miàn）被還原形成鍍層。為排（pái）除其它陽離子的幹擾，且使鍍層均勻、牢固，掛鍍生產（chǎn）線公司，需用含鍍層金屬陽離子的溶（róng）液做電鍍（dù）液（yè），以保持鍍（dù）層金（jīn）屬陽離子的濃度（dù）不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改（gǎi）變基材表麵性質（zhì）或尺寸.電鍍能增強（qiáng）金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高（gāo）導電性、潤滑性、耐熱性、和表麵美觀。
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