電解處理是大家在電（diàn）鍍工（gōng）業中（zhōng）常用的去除雜質的方法。電解處理亦是一個電鍍過程，不過它不是以獲得良好電鍍層為目的，而是以去除雜質(或調整鍍液成分含量)為（wéi）目的。所不同的隻是在陰極上不吊掛零件，而是改為吊掛以去（qù）除雜質而製作的電解板(又稱假陰極)。在通電的情（qíng）況下，使雜質在陰極電（diàn）解板上（shàng）沉積、夾附或還原成相對無害的物質。在少數情況下，電解去除雜質也（yě）有在陽極上進行的，使某些能被氧化的雜質，在（zài）通電的情況下，到達陽極上（shàng）氧化為（wéi）氣體逸出或變為相對無害的物質。

　　一（yī）、電解條件的（de）選擇

　　這裏所指的電（diàn）解，目（mù）的是要去除（chú）鍍液中的雜質，但是在電（diàn）解去除雜質的同時，往往（wǎng）也伴隨（suí）有溶液中主要金屬離子的放電沉積。為了（le）提高去除雜質的（de）速率，減慢溶液（yè）中主要金屬離（lí）子的沉積速率，就要注意電解處理的操作條（tiáo）件。

　　① 電流密（mì）度：電解處理時，以控（kòng）製多大（dà）的電流密度為好，原則上要（yào）按照電（diàn）鍍時雜質起不良影響的電流密度範圍。也就是說，在電鍍過程（chéng）中，若雜質的影響反映在低電流密度（dù）區，那麽電解處理時應控製在低（dī）電流密度（dù）下（xià）進行，假使雜質的（de）影響反映在高電流密度區，則應（yīng）選用高電流密度進行電解（jiě）；如（rú）果雜質在高電（diàn）流密度區和（hé）低電流密（mì）度區（qū）都有影響，那麽（me）可先用高（gāo）電流密度電解處理一段時間，然後再改用低電（diàn）流密度電解處理，直至鍍液恢複正常。在一般情況下，凡是用低電流密度電解（jiě）可以去除的雜質（zhì），為了減少（shǎo）鍍液中（zhōng）主要放電金屬離子的沉積，一般都采用低（dī）電流（liú）密度電解。事實上，電鍍生（shēng）產中（zhōng），多數雜質的影響反映（yìng）在低電流密（mì）度區（qū），所以通（tōng）常電解處理的電流密（mì）度（dù）控製在0.1A／dm2～0.5A／dm2之間（jiān）。

　　② 溫度和pH值：電解處理時溫度和pH的選擇，原則上也是（shì）要根據電（diàn）鍍時雜（zá）質起不良影響較大的溫度和pH範圍。例如鍍鎳溶液中的銅雜質和NO3-雜質，在pH較低時的影響（xiǎng）較大，所以（yǐ）電解去除鍍鎳（niè）溶液中的銅雜質和（hé）NO3-雜（zá）質時，應選用（yòng）低pH進行電解，在（zài）這樣的條件下，去除雜質（zhì）的速（sù）率較快。有些雜質在電解過程中會分（fèn）解為氣體（tǐ）(如NO3-在（zài）陰極上還原為氮氧化物或氨，Cl-在陽極上氧化（huà）為Cl2，等，這時就應選用（yòng）高溫電解，使電解過程中形成的氣體揮發逸出（chū）(氣體在溶液中的溶解度，一般隨溫度升高而降低)，從而防止它溶解於水而重新沾汙鍍液。

　　按照一般規律，隨著鍍液（yè）溫度（dù）的升高，電解（jiě）去除（chú）雜質的速（sù）率也（yě）增大（dà），所以當加溫對鍍液主要（yào）成（chéng）分沒有影響時，電解處理宜在加溫下進（jìn）行。但究竟以控製在什麽溫度為好，最好通過小試（shì）驗確定。

　　③ 攪拌：電解處理既然是（shì）依靠雜質在（zài）陰（yīn）極（jí）(或陽極)的表麵上反應而被除去，那麽就應創造條（tiáo）件，使雜（zá）質與（yǔ）電極表麵有充（chōng）分（fèn）的接觸機會。攪拌可以加速雜質運動，使它與電極的接觸機會增（zēng）多，所以為了提高處理效果，電解時應攪拌鍍（dù）液。

　　二、電解（jiě）處理的要求

　　① 首先要查明有害雜質是否來源於電解過程：電解處理（lǐ）可（kě）以去除某些雜質，但有時也（yě）會產生雜質。例如（rú）有害雜質來源於不（bú）純的陽極，電解處（chù）理時仍用這種陽極，那麽隨（suí）著電解過程的進行，雜質會越積越多；又如雜質來源（yuán）於某些化合（hé）物在電極上的分解，那麽電解將使這類（lèi）分解產物逐漸增多。這樣的（de）電解處理，不但不能淨化鍍（dù）液，反而會不斷加重鍍液的汙染。因此，在電（diàn）解處理前，要進行必要的檢查，預（yù）防處理過程（chéng）中產生有害雜質。

　　電解用的陰極(假陰極)麵積要（yào）盡可能大：用電解法去除雜質，大多是在（zài）陰極表麵上進行的，所以增大陰極麵（miàn）積（jī），可（kě）以提高去（qù）除雜質的效率n同時為了（le）在不同的電（diàn）流密度部位電解去除鍍液中不（bú）同雜質或同一（yī）種雜質，要（yào）求電解用的陰極做成凹凸的表麵(如瓦楞形)，這樣可以提高電（diàn）解處理的效果。但陰極上的凹處不宜太深，以防止電流密度過小而使雜（zá）質不能（néng）在這些部位沉積或還原。

　　③ 電解過程中，要定時刷洗陰極：由於電解處（chù）理的時間一（yī）般都比較長，在長時間的電解（jiě）過程中，陰極上可能會產生疏鬆的沉積物，它的脫（tuō）落會重新沾（zhān）汙鍍液，所以在電解一段時間後，應將陰極取出刷洗，把陰（yīn）極上疏鬆或不良的沉積物刷去後再繼續電解。

　　④ 電解處理前，最好先做小試驗估計一下電解處理的效果（guǒ）和時間：有些雜質，用電解處理（lǐ）很難（nán）除去（qù），若盲目地采用電解處理，可能花了很長時間也不能使鍍液恢複正常。