電鍍處（chù）理過程中所用（yòng）的（de）設備主要有各類固定槽、滾鍍槽、掛具、吊籃等。鍍後處理（lǐ）是對零件（jiàn）進行拋光、出光（guāng）、鈍（dùn）化、著色、幹燥、封閉（bì）、去氫等工作，龍門式掛鍍生產線，根據需要選（xuǎn）用其中一種或數（shù）種工序使零件符合質量（liàng）要求。鍍後處理（lǐ）常用設備主要有磨、拋光機，各（gè）類固定槽。全自動環形（xíng）垂（chuí）直升降電鍍流水線
工藝要求
1. 鍍層與基（jī）體金屬，鍍層與鍍層之間，應有良好的結合力。
2. 鍍層應結晶細致，掛鍍生產線（xiàn）研發，平整，厚度均勻。
3. 鍍（dù）層應具有規定的厚度和盡可能（néng）少的孔隙。
4. 鍍層應具有規定的各項指標，如光亮度，硬度，導電性等。
5. 環境溫度為-10℃～60℃;
6. 輸入電壓為220V±22V或380V±38V;
7. 水處理設（shè）備最.大工作噪聲應不大於80dB(A)。
8. 相（xiàng）對（duì）濕度(RH)應不大於95%;
9. 原水COD含（hán）量為100mg/L～150000mg/L。
10. 電鍍（dù）時間及（jí）電鍍過（guò）程的溫（wēn）度，決定鍍層厚度的大小。
電鍍的概念
就是利用電解原理在某些金屬（shǔ）表麵上鍍上一（yī）薄層（céng）其它（tā）金屬或合（hé）金（jīn）的過程（chéng）。電鍍時，鍍層金屬做陽極，被氧化成陽離子進入（rù）電鍍液；待鍍的金屬（shǔ）製品做陰極，鍍（dù）層金屬的陽離子在金屬表麵被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的幹擾，且（qiě）使鍍層均勻、牢（láo）固，掛鍍生產線公司，需用含鍍層（céng）金屬陽離子的溶液（yè）做電鍍液，以保持鍍層（céng）金屬（shǔ）陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變（biàn）基材表（biǎo）麵（miàn）性質或尺寸.電鍍（dù）能增強金（jīn）屬的抗腐蝕性(鍍層金（jīn）屬多采用耐腐蝕的（de）金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導電性、潤滑性、耐熱（rè）性（xìng）、和表麵美觀。
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